Como um material cerâmico importante,  o pó de nitreto de silício (pó de Si3N4 HW-L559) pode ser usado para preparar chapas fundidas à base de nitreto de silício . Este tipo de chapa fundida tem muitas aplicações e funções importantes. Seu processo de preparação inclui  a preparação de nitreto de silício em uma pasta e, em seguida, reveste-o uniformemente no substrato por meio do processo de fluxo e forma fatias finas após secagem e solidificação. A seguir serão apresentadas várias funções principais desempenhadas pelos pós de nitreto de silício em chapas fundidas :  

Primeiro, possui  excelentes propriedades mecânicas. Devido à alta intensidade e dureza do Si3N4, as chapas preparadas apresentam excelente resistência à compressão e resistência à abrasão, o que permite manter um desempenho estável em alta temperatura, alta pressão e ambientes agressivos. Portanto, é amplamente utilizado nas áreas aeroespacial, indústria automotiva, equipamentos químicos e outras áreas para fabricar materiais estruturais de alta temperatura, vedações e peças mecânicas.

Em segundo lugar, possui  excelente resistência à corrosão. Como o pó de nitreto de silício possui boa estabilidade química, as folhas podem ser usadas no ambiente de uma variedade de meios ácido-base, solventes e gases corrosivos. Isso faz com que as fatias de nitreto tenham sido amplamente utilizadas nas áreas química, eletrônica, médica e biológica. Por exemplo, pode ser usado para fabricar recipientes de ácidos e álcalis, reatores e sensores químicos, bem como dispositivos médicos corrosivos e materiais de biomassa.

Além disso, a  chapa fundida com pó de nitreto de silício si3n4 também possui bom  desempenho de isolamento elétrico e condutividade térmica. Ele pode manter alto desempenho de isolamento em altas temperaturas, ao mesmo tempo que possui alta condutividade térmica. Isto levou à ampla aplicação do filme de nitreto de silício em dispositivos eletrônicos, gerenciamento térmico e aplicações com alta demanda por dissipação de calor. Por exemplo, na indústria eletrônica, o filme de nitreto de silício pode ser usado como substrato de dissipação de calor para dispositivos eletrônicos de alta potência, exportando efetivamente o calor gerado e mantendo a temperatura normal de operação dos componentes eletrônicos.

A  chapa fundida com pó de nitreto de silício si3n4 também possui excelentes características eletrônicas, como excelente desempenho de isolamento e gap de banda larga. Isso o tornou amplamente utilizado no campo de dispositivos optoeletrônicos. Pode ser usado como camada reflexa superficial de células solares para melhorar efetivamente a eficiência da conversão fotoelétrica.

Resumindo, os pós de Si3N4 desempenham um papel importante na preparação de chapas fundidas . Com o avanço contínuo da ciência e da tecnologia, acredita-se que o campo de aplicação do nitreto de silício continuará a se expandir, trazendo mais inovação e desenvolvimento para todas as esferas da vida.